
Leset!p · Imec erhält High-NA-EUV-System für 350 Millionen Euro
Europäische Forscher und Unternehmen bekommen Zugriff auf das modernste Lithografie-System der Welt. Das Imec weiht einen passenden Reinraum ein.
Das belgische Interuniversity Microelectronics Centre (Imec) rüstet seine Halbleiterfertigung zusammen mit europäischen Partnern erheblich auf. Eine Erweiterung seines Reinraums um 2000 Quadratmeter schafft Platz für die neueste Generation von Lithografie-Systemen: eines, das extrem-ultraviolettes Licht mit hoher numerischer Apertur einsetzt (High-NA EUV). Bisherige Low-NA-EUV-Systeme betreibt das Forschungszentrum bereits; auf eins mit High-NA EUV hatte Imec bisher nur bei ASML in Eindhoven Zugriff.
s3n🧩net wünscht viel Vergnügen














Comments